Первый российский серийный литограф для производства 350-нм чипов поставят в декабре 2026 года

Изображение сгенерировано нейросетью Первая российская литографическая установка для производства чипов по технологии 350 нм должна быть сдана заказчику в самом конце 2026 года. Первый экземпляр литографа будет отгружен интегрированной в холдинг «Швабе» компании «Маппер», а второй экземпляр установки достанется фирме «Отраслевые решения» из ГК «Элемент».